在机构学中，低副和高副是按照是否存在约束来划分的。低副是指两构件之间为面接触形成的运动副，其自由度为1；高副是指两构件之间为点或线接触形成的运动副，其自由度为2。

平面机构自由度的计算公式为F=3n-2PL-PH，其中：n为活动构件数目；PL为低副数目；PH为高副数目。

在计算机构自由度时，需要先确定机构中的活动构件数目，然后判断运动副的类型并计数。低副包括转动副和移动副，高副包括平面高副。在计算时需要注意复合铰链、局部自由度和虚约束的情况。